• 致客户书丨关于优尼康在疫情期间客户服务工作

    尊敬的客户: 大家新年好! 祝大家在新的一年健康平安!

    2020-02-03 admin 249

  • 优尼康:膜厚测量技术在光刻胶领域的应用

    2018年5月,我司(优尼康)工程师在上海一家专注于半导体行业所需功能性化学材料产品的公司。致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案,跻身为世界一流半导体材料供应商与应用技术服务商。该公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术,拥有完整自主可控知识产权的高端光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术。前期经过一段时间的沟通以

    2020-01-20 李扬 91

  • 优尼康首次亮相中国材料大会

    优尼康携膜厚测量技术首次亮相中国材料大会(Ciamite 2019)

    2020-01-20 李扬 213

  • 光学膜厚仪的优势特点及使用时应该注意的事项

    膜厚仪作为一种测量膜层厚度的仪器,在很多的行业领域都得到了广泛的应用,尤其是光学膜厚仪,因为测量精度高、非接触方、无须破坏样品等优点,受到众多企业用户和高校老师的喜爱,今天主要对光学膜厚仪做个简单了解。<1>光学膜厚仪的优点  1.非接触式测量  光学膜厚仪采用的原理是通过光的反射原理对膜层厚度进行测量,属于非接触式测量方法,不会对样品造成任何损伤,能够保证样品的完整性。  2.测量数

    2020-01-20 李扬 182

  • SEMICON CHINA 2019 圆满成功-优尼康科技

    半导体展已于上海博览中心完满落幕

    2020-01-20 李扬 193

  • 5G时代最重要的半导体材料:碳化硅(SiC)的膜厚测量

    作者:Kevin Hu,优尼康科技有限公司高级技术工程师随着5G大潮的到来,新一代的移动通信产品大多具备高功率,耐高温等特性,传统原料中的硅(Si)无法克服在高温、高压、高频中的损耗,逐渐被淘汰,跟不上时代的发展,无法满足现代工艺的要求,这就使得碳化硅(SiC)新工艺在半导体行业崭露头角。目前SiC 产品格局还处于三足鼎立的状态,美国、欧洲、日本占据全球产值的八成,其中又以美国独大,中国虽以即将进

    2020-01-17 admin 122

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