优尼康:膜厚测量技术在光刻胶领域的应用

2019-09-05 10:58:39 李扬 32

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2018年5月,我司(优尼康)工程师在上海一家专注于半导体行业所需功能性化学材料产品的公司。

致力于为用户提供化学材料、配套设备、应用工艺和现场服务一体化的整体解决方案,跻身为世界一流半导体材料供应商与应用技术服务商。

该公司已立项研发集成电路制造用高分辨率193nm ArF光刻胶及配套材料与应用技术,拥有完整自主可控知识产权的高端光刻胶产品与应用即将形成公司的第三大核心技术。

前期经过一段时间的沟通以及测试,最终选择了美国Filmetrics的F50这款机器,帮助企业解决光刻胶厚度测量的问题,光刻胶的厚度测量帮助企业更好的改进工艺,把关质量,减少损耗,助力企业的发展。

为什么选择美国Filmetrics膜厚测量仪?

主要是Filmetrics产品操作简单,单击鼠标,我们就可以通过分析薄膜的反射光谱来测量薄膜的厚度,通过非可见光的测量,我们可以测量薄至1纳米或厚至13毫米的薄膜。由于没有任何的可移动的零件,测量结果可在几秒钟显示:薄膜厚度、颜色、折射率甚至是表面粗糙度。